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高纯度金颗粒蒸镀仪

采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm～-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液态金属表面热发射电子引起液面上杂质颗粒"放电"的理论来解释这一现象。这类电晕放电造成颗粒附近温度*,瞬间将颗粒蒸发沉积在衬底。通过改变蒸镀功率,或保持功率不变,改变电子束斑点形状、落点位置等一系列实验,验证了理论的合理性。

分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分.对比金膜表面黑色颗粒分布的密度;根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因;并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助.

-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源、坩埚蒸发；

腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；

泵：前级干泵，分子泵；

- Load Lock

样品传输腔室：手动或自动传输，高真空，支持多种样品衬底(选配)；

工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；

衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；

- 衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；

- 保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；

高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料

控制方式	7寸人机界面手动自动模式切换控制
加热方式	数字式功率调整器
镀膜功能	0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率	≤1200W
输出电压电流	电压≤12V 电流≤120A
真空度	机械泵 ≤5Pa（5分钟）分子泵≤10^-3Pa
挡板类型	电控
真空腔室	石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
样品台	可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速	8转/分钟
样品蒸发源调节距离	70-140mm
蒸发温度调节	≤1800℃
支持蒸发坩埚类型	钨丝蓝带坩埚钨丝蓝钨舟碳绳
预留真空接口	KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
可选配扩展	机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）