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产品详情
一、产品概述
1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途：
►设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
►适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜，也可用于生产线前期工艺试验等；
►适用于制备光学薄膜、导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜等。
| 型号 | TEMD600 |
| 真空腔室结构 | 立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统 |
| 真空腔室尺寸 | Φ600×H750mm |
| 加热温度 | 室温～300℃ |
| 旋转基片台 | 平板型Φ350mm，或球罩型基片台可选 |
| 膜厚不均匀性 | ≤±5.0% |
| 考夫曼离子源 | 可选 |
| 蒸发源 | 电子枪8KW 6穴坩埚 国产进口可选，配2-3组电阻蒸发 |
| 控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统 |
| 占地面积 | 长×宽：L2500×W1600mm |
| 总功率 | ≥17KW |
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