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产品详情

NP-CMP化学机械抛光液制备设备主要用于CMP（化学机械抛光液）（包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液）的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

NP-CMP化学机械抛光液制备设备经过测试的工艺路线，已经实现量产The tested process route has achieved mass production ；

智能控制，实时监测，完整数据存储，直观显示图、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables；

转速可调，温度可控，超声波强度可调，可定时Rotating speed adjustable， Temperature controlled， Ultrasonic intensity adjustable， Timed ；

操作方便简洁，清洗容易 Easy and simple operation，easy to clean。

NP-CMP化学机械抛光液制备设备 参数：

Items	实验型Experiment Type	生产型Production Type
温度Temperature（℃）	-30℃~80℃	-20℃~80℃
分散方式Dispersion Type	连续式continuous	连续式continuous
材质Material quality	玻璃、不锈钢、钛 glass or stainless steel	不锈钢、钛stainless steel
规格Specification	依容积depend on volume	定制customized
流量Flow rate	50~1000ml/min	可定制customized
介质粘度media viscosity	≤104cP	≤104cP
搅拌转速agitation speed	500~3000rpm依实际需求选择	500~3000rpm依实际需求选择
剪切转速agitation speed	1400~20000rpm依实际需求选择	1400~12000rpm依实际需求选择
电源Power	220V/50Hz	220V/50Hz 、380V/50Hz
超声功率Ultrasonic power	200~3000W	定制customized
超声频率Ultrasonic Frequency	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz
显示方式Display model	数显、液晶触摸屏digital display,LCD touch screen 依据需要可选择	液晶触摸屏LCD touch screen
其它Others	温度、功率可调Temperature、power adjustment NP(纳威科技)是一家研发、制备、定制微纳米、新能源等材料的反应、分散、整条产线等设备及清洗设备的高科技公司。公司产品开发遵循“智能化、模块化、连续化、小型化”的设计原则，坚持“设计制造最合适的设备来满足用户的工艺条件”、和“真心为客户提供最佳的解决方案和服务”的理念，开发出来的系列微纳米材料合成、反应设备、微纳米材料高效分散设备广泛适用于纳米Ni、Ag、Cu、FePO4、MnO2、ZrO2、TiO2、Mg(OH)2、SiO2、磷酸铁、磷酸铁锂、三元等多种微纳米材料的从实验室研究、小试、中试放大、直到工业化规模生产应用。包括有：1、标准的实验室使用的反应设备、分散设备、搅拌设备、研磨设备、清洗设备等；2、定制各种实验室设备；3、定制实验室成套设备；4、定制中试设备；5、量产设备等。