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在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不合格或水中含有杂质，就会降低装置的性能，降低产量。确保超纯水的质量是中国自主研发芯片的重要基础。

传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是，树脂在使用一段时间后应经常再生。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德经常采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。

近年来，随着芯片制造过程中对设计的需求朝着更精确、更小的方向发展，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、细菌、有机物和微生物，从而达到电子行业常用的纯净的水质。

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