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全自动离子刻蚀机 MEL 3100
伯东公司日本进口全自动离子刻蚀机 MEL 3100, 蚀刻速率 >10(nm/min), 均匀性 ≤±5%, 全自动化系统减少人工操作, 保证产品高稳定性和高质量. 有效减少因人工操作带来的损失！
全自动离子刻蚀机 MEL 3100 特性
全自动化系统
清洁: 钛用于经常暴露于离子束的零件, 以产生低粒子. 晶圆输送盒采用高效空气过滤器.
占地面积小, 方便维护
10.4英寸触摸屏
配置美国 KRI 考夫曼离子源和德国 Pfeiffer 分子泵.
全自动离子刻蚀机 MEL 3100 技术规格.
型号 | MEL 3100 |
样品数量尺寸 | 3”φ-6”φ,1片 |
晶圆输送盒 | 1个, 25 片晶圆 |
极限真空 | 8x10-5 Pa |
均匀性 | ≤±5% |
蚀刻速率 | >10(nm/min) @SiO2 |
Hakuto 日本原装设计制造离子刻蚀机 IBE, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料,黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子蚀刻机. 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!
伯东公司超过 50年的刻蚀 IBE 市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术!
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗小姐
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